A IPURE tem a certificação de CSP – Certified Service Provider, que assegura aos clientes IPURE serviços técnicos realizados por profissionais certificados, vendas de pecas originais e estoque local.
Todas as grandes multinacionais farmacêuticas, atualmente estão utilizando a tecnologia de eletrodeionização CEDI.
• As 10 maiores indústrias farmacêuticas mundiais tem operações com módulos de Eletrodeionização (CEDI) IONPURE utilizando o processo de sanitização térmica (HWS);
• Existem mais de 1000 sistemas CEDI validados para produção de Indústrias farmacêuticas atendendo e cumprindo as normas para produção de água purificada (PW) e água para injetáveis (WFI) de acordo com as normas de água (USP / EP / JP).
•Atende aos requisitos USP quando o sistema requer duplo passo de osmose reversa.
• Sem produtos químicos necessários para a regeneração
•Controle de bactérias por meio de sanitização com água quente (LX-HI)
• Sanitização instantânea de água quente (HWS), sem necessidade de rampa de temperatura, significa controles menos complexos e ciclos de sanitização mais rápidos
• Menos tempo de inatividade
• Validado facilmente
• Todos os materiais USP / CFR (HI e EU) ou NSF (LX-X / Z) estão em conformidade,
• Garantia de vazamento
• Segurança e aparência superiores
As usinas de energia têm usado por muitos anos água deionizada no make-up das caldeiras de alta pressão e para a produção de vapor para acionar turbinas e gerar eletricidade. Embora essa tecnologia seja popular há meio século, ela requer o uso de produtos químicos perigosos para regenerar os deionizadores de troca iônica. Além disso, a troca iônica produz resíduos químicos que requerem neutralização antes de serem descarregados.
Durante os últimos 10 anos, as usinas de energia têm usado cada vez mais osmose reversa (RO) como um desmineralizador de desbaste para remover a maior parte dos contaminantes minerais, orgânicos e particulados, reduzindo assim o consumo químico do sistema de troca iônica. Melhorias recentes na tecnologia de eletrodeionização contínua (CEDI) resultaram no movimento em direção a sistemas de deionização sem produtos químicos, porque RO seguido por CEDI tornou-se mais competitivo em custo com a troca iônica convencional. Outra vantagem do RO/CEDI é que ele oferece melhor remoção de sílica coloidal e orgânicos dissolvidos do que a deionização convencional. Recentemente, os custos do módulo e do sistema CEDI caíram ainda mais devido às melhorias na construção do módulo. A maior aceitação da tecnologia RO/CEDI resultou em algumas grandes instalações de geração de vapor, temos algumas operando no Brasil que contam com suporte da IPURE no fornecimento de serviços e peças de reposição e no desenvimento de novos projetos.
Considerações de processo com RO/CEDI
O processo CEDI evoluiu gradualmente para uma etapa de desmineralização de polimento que quase sempre é usada a jusante de um sistema de RO. Isso ocorreu principalmente porque os dispositivos CEDI são suscetíveis a incrustações de dureza, incrustação orgânica e obstrução física por partículas e coloides. Também ocorre porque a qualidade da água do produto CEDI depende um pouco da qualidade da água de alimentação. Enquanto alguns dispositivos CEDI podem ser capazes de produzir água de “qualidade de leito duplo” diretamente da água de alimentação abrandada, a maioria das aplicações de usinas agora requer água de “qualidade de leito misto”. Isso normalmente não pode ser produzido pelo CEDI sozunho.
Ao usar RO como pré-tratamento para o CEDI, os sólidos dissolvidos são reduzidos a um nível que permite ao CEDI atender aos requisitos de qualidade da água de alimentação de uma caldeira de alta pressão (Tabela 1). Além disso, o RO remove substâncias orgânicas que poderiam obstruir as resinas de troca iônica nos módulos CEDI e remove partículas que poderiam obstruir os canais de fluxo estreitos nos compartimentos de resina (espaçadores) ou no próprio leito de resina.
Além disso, existem algumas questões relacionadas ao projeto de processos de pré-tratamento/RO/CEDI para alimentação de caldeiras e devem ser consideradas para garantir o desempenho e a confiabilidade do sistema a longo prazo. Esses Incluem:
Determinar se usar um RO de passagem única (simples passo) ou de duas passagens (duplo passo) [geralmente ditado pela qualidade da água bruta]
As instalações de microeletrônica exigem grandes volumes de água – até dois mil galões por minuto (454 m3/h) – para fabricar um produto. E enquanto os produtos aumentam em complexidade e diminuem em tamanho, os requisitos de qualidade para a água aumentam proporcionalmente.
Provavelmente uma das mudanças mais significativas no uso de tecnologia em sistemas microeletrônicos de água, é o crescimento no uso de sistemas CEDI. A tecnologia CEDI agora é comumente usada como um processo de desmineralização pós-RO em uma variedade de aplicações, incluindo microeletrônica.
Alguns esforços foram feitos no passado para desenvolver a tecnologia CEDI como uma etapa final de polimento e como uma substituição para leitos mistos para aplicações de microeletrônica. Embora esses esforços tenham tido sucesso limitado e não tenham sido eficazes em termos de custos, as últimas inovações no processo CEDI, combinadas com módulos CEDI de baixo custo e projetos de sistema – como o Ionpure VNX – resultaram em uma alternativa econômica ao MIX BED DI.
Embora os sistemas de polimento em leito misto continuem a ser usados, tem havido um uso crescente dos sistemas CEDI como uma técnica de polimento – por razões de qualidade e econômicas. Os desenvolvimentos em andamento na tecnologia CEDI continuam; por exemplo, a tecnologia Ionpure UP foi desenvolvida para remover espécies fracamente ionizadas, como boro e sílica, da água de alimentação, que é tipicamente permeado de RO, e atingir pureza muito alta (18 M.-cm) na água produzida.
O desenvolvimento de dispositivos de leito em camadas CEDI tem a vantagem de poder configurar as camadas de troca iônica dentro do dispositivo para otimizar a remoção de contaminantes específicos. Nos últimos anos, houve uma mudança em direção a células de diluição mais espessas e abordagens de sistema modular, que reduziram os custos.
Membranas de desgaseificação
A remoção de oxigênio se tornou um item muito importante, com níveis típicos agora especificados em <1 ppb. As torres de vácuo eram anteriormente o padrão, mas agora, em quase todas as novas fábricas, a tecnologia de desgaseificação por membrana é usada.
Normalmente, são usados sistemas de desgaseificação com duas membranas, a principal removendo o oxigênio para menos de 100 ppb e o sistema de polimento, em seguida, reduzindo o oxigênio para menos de 1 ppb. Usando dois sistemas, a remoção de oxigênio e THM pode ser bastante melhorada e também permite a ozonização do sistema de polimento sem que ocorram excursões de oxigênio.
Tal como acontece com a tecnologia CEDI, onde os íons contaminantes passam através do material da membrana e a água não, em sistemas de membrana de desgaseificação, o gás que está sendo removido passa através da membrana enquanto a água é retida.
Módulo VNX E e EX para Microeletrônica
O módulo de alto fluxo Ionpure® VNX55EX-2 foi projetado com tecnologia comprovada de eletrodeionização contínua (CEDI) para produzir água de alta pureza. O desempenho foi otimizado para as demandas críticas de alta qualidade da indústria de microeletrônica.
O módulo de alto fluxo Ionpure® VNX55-EP foi projetado com tecnologia comprovada de eletrodeionização contínua (CEDI) para produzir água de alta pureza. Os conectores proprietários flexmount criam um sistema de suporte para os módulos, o que simplifica o projeto dos sistemas para reduzir o custo de capital geral. Cada VNX EP é capaz de produzir água de alta qualidade a um fluxo nominal de 55 gpm (12,5 m3/h) por módulo.
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